Σήμερα Γιορτάζουν:

ΑΔΑΜΑΝΤΙΟΣ

ΑΘΗΝΑ

ΑΚΡΙΒΗ

ΑΝΤΙΓΟΝΗ

ΑΣΠΑΣΙΑ

ΑΦΡΟΔΙΤΗ

ΔΙΑΜΑΝΤΩ

ΔΙΩΝΗ

ΔΩΔΩΝΗ

ΕΛΠΙΝΙΚΗ

ΕΡΑΣΜΙΑ

ΕΡΑΤΩ

ΕΥΤΕΡΠΗ

ΘΑΛΕΙΑ

ΘΕΑΝΩ

ΘΕΟΝΥΜΦΗ

ΙΗΣΟΥΣ

ΙΣΜΗΝΗ

ΚΑΛΛΙΡΟΗ

ΚΑΛΛΙΣΤΗ

ΚΛΕΙΩ

ΚΛΕΟΝΙΚΗ

ΚΛΕΟΠΑΤΡΑ

ΚΟΡΑΛΙΑ

ΜΑΝΤΩ

ΜΑΡΓΑΡΙΤΑ

ΜΑΡΙΑΝΘΗ

ΜΕΛΕΤΙΟΣ

ΜΕΛΠΟΜΕΝΗ

ΜΟΣΧΩ

ΟΥΡΑΝΙΑ

ΠΑΝΔΩΡΑ

ΠΗΝΕΛΟΠΗ

ΠΟΛΥΜΝΙΑ

ΠΟΛΥΝΙΚΗ

ΠΟΛΥΤΙΜΗ

ΡΑΛΛΗΣ

ΡΑΛΛΙΑ

ΣΑΠΦΩ

ΣΥΜΕΩΝ

ΤΕΡΨΙΧΟΡΗ

ΧΑΙΔΩ

ΧΑΡΙΚΛΕΙΑ

1 Σεπτεμβρίου 2026

Κίνα: Πόσο μακριά από την τεχνολογία EUV της ASML

πρΑΙμ Σύνοψη Άρθρου

  • Η UBS εκτιμά ότι η Κίνα βρίσκεται στο επίπεδο της ASML του 2004 στην τεχνολογία EUV.
  • Οι περιορισμοί των ΗΠΑ επιβραδύνουν την τεχνολογική πρόοδο της Κίνας στους ημιαγωγούς.
  • Η Κίνα αναμένεται να αναπτύξει μαζική παραγωγή συστημάτων DUV εντός 2-5 ετών.
  • Η ASML παραμένει μονοπώλιο στην τεχνολογία EUV, με κόστος άνω των 200 εκατ. δολαρίων.

Η παγκόσμια κούρσα για την κυριαρχία στην κατασκευή ημιαγωγών έχει αποκτήσει νέα διάσταση, με την Κίνα να επιχειρεί να γεφυρώσει το τεχνολογικό χάσμα που τη χωρίζει από τη Δύση. Ωστόσο, σύμφωνα με πρόσφατη ανάλυση της επενδυτικής τράπεζας UBS, η πορεία αυτή είναι μακρά και επίπονη, με την κινεζική βιομηχανία να βρίσκεται περίπου δύο δεκαετίες πίσω από τον κολοσσό της ολλανδικής ASML, ειδικά στον τομέα της λιθογραφίας ακραίας υπεριώδους ακτινοβολίας (EUV).

Οι αναλυτές της UBS, με επικεφαλής τον Φρανσουά-Ξαβιέ Μπουβινιέ, σε σημείωμά τους προς τους πελάτες της τράπεζας και με δημοσίευση στο Bloomberg, υπογραμμίζουν ότι η Κίνα βρίσκεται σε ένα στάδιο ανάπτυξης αντίστοιχο με εκείνο της ASML το 2004. Αυτό σημαίνει πως, παρά τις τεράστιες επενδύσεις και την κρατική στήριξη, η δημιουργία μιας βιώσιμης εναλλακτικής λύσης στην προηγμένη τεχνολογία EUV είναι εξαιρετικά απίθανη εντός της επόμενης δεκαετίας.

Η στρατηγική του Πεκίνου και τα εμπόδια

Το Πεκίνο έχει θέσει ως εθνική προτεραιότητα την επίτευξη αυτάρκειας στον κρίσιμο τομέα των ημιαγωγών, διοχετεύοντας σημαντικά κρατικά κεφάλαια στην εγχώρια βιομηχανία. Στόχος είναι η μείωση της εξάρτησης από ξένες τεχνολογίες, μια στρατηγική που καθίσταται ολοένα και πιο επιτακτική εν μέσω των γεωπολιτικών εντάσεων. Ωστόσο, η πρόοδος αυτής της προσπάθειας προσκόπτει συνεχώς στους αυστηρούς περιορισμούς που έχει επιβάλει η Ουάσινγκτον στις εξαγωγές προηγμένου εξοπλισμού κατασκευής τσιπ προς την Κίνα. Αυτά τα εμπόδια έχουν επιβραδύνει σημαντικά την τεχνολογική εξέλιξη της χώρας, διατηρώντας την εξάρτησή της από παλαιότερες γενιές τεχνολογίας.

Η ASML, με έδρα το Βέλντχοβεν της Ολλανδίας, κατέχει το μονοπώλιο στην παραγωγή των πλέον εξελιγμένων μηχανημάτων λιθογραφίας παγκοσμίως. Αυτά τα συστήματα είναι απαραίτητα για την κατασκευή προηγμένων ημιαγωγών, συμπεριλαμβανομένων των τσιπ που χρησιμοποιούνται από την αμερικανική Nvidia Corp. Η ολλανδική εταιρεία απαγορεύεται να πωλήσει στην Κίνα τα συστήματα EUV, την πιο προηγμένη τεχνολογία του κλάδου, γεγονός που αποτελεί ένα ανυπέρβλητο εμπόδιο για την κινεζική βιομηχανία, η οποία παραμένει μία από τις σημαντικότερες αγορές για την ASML.

Η ανάλυση των διπλωμάτων ευρεσιτεχνίας

Οι αναλυτές της UBS βασίζουν την εκτίμησή τους σε μια ενδελεχή εξέταση της δραστηριότητας στον τομέα των διπλωμάτων ευρεσιτεχνίας, εστιάζοντας ιδιαίτερα στα υποσυστήματα πηγών φωτός και λέιζερ. Η ανάλυση αυτή αποκαλύπτει ότι η Κίνα έχει επιτύχει ένα επίπεδο τεχνολογικής ωριμότητας αντίστοιχο με εκείνο της ASML περίπου 15 χρόνια πριν από τη μαζική παραγωγή των συστημάτων EUV. Αυτό το χρονικό χάσμα είναι ενδεικτικό των τεράστιων προκλήσεων που πρέπει να ξεπεραστούν, από την απόδοση της παραγωγής έως τον ρυθμό κατασκευής.

Όπως χαρακτηριστικά σημειώνουν οι αναλυτές, δεδομένων των πιθανών αποκλίσεων σε επίπεδο αποδόσεων και ρυθμού παραγωγής σε σχέση με την ASML, σε συνδυασμό με τους συνεχείς ρυθμιστικούς περιορισμούς, θεωρείται εξαιρετικά απίθανο τα κινεζικής κατασκευής συστήματα λιθογραφίας να χρησιμοποιηθούν ποτέ εκτός των συνόρων της χώρας. Η εκτίμηση αυτή υπογραμμίζει το βάθος του τεχνολογικού χάσματος και την πολυπλοκότητα του εγχειρήματος.

Το ενδιάμεσο βήμα της τεχνολογίας DUV

Παρά τις δυσοίωνες προβλέψεις για την τεχνολογία EUV, η UBS αναγνωρίζει ότι η Κίνα θα μπορούσε να σημειώσει πρόοδο σε ένα ενδιάμεσο στάδιο. Συγκεκριμένα, εκτιμάται ότι μέσα στα επόμενα δύο έως πέντε χρόνια, η χώρα θα μπορούσε να αποκτήσει τη δυνατότητα μαζικής παραγωγής συστημάτων λιθογραφίας βαθιάς υπεριώδους ακτινοβολίας (DUV) με τεχνολογία εμβάπτισης (immersion). Αν και τα συστήματα DUV θεωρούνται λιγότερο προηγμένα από τα EUV, αποτελούν κρίσιμο εξοπλισμό για την παραγωγή ημιαγωγών, καθώς χρησιμοποιούν φως για να αποτυπώσουν εξαιρετικά σύνθετες κυκλωματικές διατάξεις πάνω σε πλακίδια πυριτίου (silicon wafers).

Η διαφορά κόστους μεταξύ των δύο τεχνολογιών είναι τεράστια και αποκαλύπτει την αξία τους. Η ASML τιμολογεί τα συστήματα DUV με τεχνολογία εμβάπτισης κοντά στα 90 εκατομμύρια δολάρια ανά μονάδα, ενώ ο πλέον προηγμένος εξοπλισμός EUV κοστίζει πάνω από 200 εκατομμύρια δολάρια ανά μηχάνημα. Αυτή η διαφορά τιμής αντικατοπτρίζει την πολυπλοκότητα και την τεχνολογική υπεροχή των συστημάτων EUV, καθιστώντας σαφές ότι η Κίνα έχει ακόμη ένα πολύ μακρύ δρόμο να διανύσει για να φτάσει τα επίπεδα της ASML.